삼성전자와 에스케이(SK)하이닉스의 반도체 디램(DRAM) 관련 핵심기술을 중국으로 유출한 국내 협력업체 임직원들이 1심에서 징역형을 선고받았다.
서울중앙지법 형사25-3부(재판장 지귀연)는 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 국내 반도체 장비업체 ㅁ사의 부사장 신아무개씨에게 징역 1년을 선고했다. 연구소장 임아무개씨와 영업그룹장 박아무개씨는 징역 1년6개월에 집행유예 2년과 벌금 3천만원이 선고됐다. ㅁ사 법인에는 4억원의 벌금형이 내려졌다.
이들은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 에스케이하이닉스의 반도체 제조 기술(HKMG)과 세정 레시피 등을 중국 경쟁업체에 빼돌린 혐의로 2021년 1월 재판에 넘겨졌다. 이들이 유출한 기술은 전도율이 높은 신소재를 사용해 디램 반도체 성능을 향상시킨 최신 기술이다.
이들은 삼성전자의 자회사인 세메스의 전직 직원으로부터 취득한 초임계 세정장비 도면 등을 활용해 중국 수출용 반도체 세정장비를 개발한 혐의도 받았다. 초임계 세정장비는 세메스가 세계 최초로 개발한 반도체 세정용 화학물질이다. 검찰은 국가정보원에서 기술 유출 사실을 전달받아 수사를 시작했다.
재판부는 “반도체 세정 레시피를 해외로 유출한 범행은 죄질이 상당히 좋지 않다”고 밝혔다. 특히 “세메스 정보 사용에 있어 최고책임자인 피고인의 지시와 주도 없이 이와 같은 개발이 이뤄질 수 없다”며 신씨에게 실형을 선고한 배경을 밝혔다.
재판부는 에스케이 하이닉스와 반도체 세정장비 기술을 공동보유하고 있었다는 ㅁ사의 주장을 일부 받아들여 반도체 세정장비 사양 정보 누설 부분은 무죄로 봤다. 재판부는 “공동개발계약서에 따라 에스케이하이닉스 관련 정보만 제3자에게 공개를 금지할 뿐 공동개발 결과물에 해당하는 세정장비 사양 정보를 알려준 것 자체가 금지돼있거나 비밀유지의무 위반이라고 단정할 수 없다”고 봤다.
이지혜 기자
godot@hani.co.kr
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