삼성전자가 축구장 16개 크기의 세계 최대규모 반도체 공장인 평택 2라인의 가동을 시작했다.
삼성전자는 지난 2018년 착공을 시작한 12만8900㎡(3.9만평) 규모의 평택 2라인이 가동에 들어갔다고 30일 밝혔다. 평택 2라인에서 처음 출하된 제품은 업계 최초로 극자외선(EUV) 공정을 적용한 3세대 10나노급 엘피디디아르(LPDDR)5 모바일 디(D)램이다. 엘피디디아르5는 스마트폰이나 태블릿과 같은 모바일 기기에서 사용되는 저전력 디램이다. 이번 제품에 적용된 극자외선은 반도체 회로 패턴을 그릴 때 사용되는 광원으로 기존의 불화아르곤보다 훨씬 세밀한 작업이 가능하다. 이번 제품은 기존 제품에 비해 처리 속도가 16% 빠르다. 16GB(기가바이트) 제품 기준으로 풀에이치디급 영화(5GB) 약 10편을 1초에 처리할 수 있다.
평택 2라인에서는 브이(V)낸드, 초미세 파운드리(반도체 위탁 생산) 제품 생산도 이뤄진다. 삼성전자는 지난 5월 극자외선을 기반으로 한 파운드리 생산라인을 착공했고, 6월에는 낸드플래시 생산라인도 착공했다. 두 라인은 내년 하반기부터 본격적으로 가동할 계획이다.
삼성전자는 “평택 2라인은 2018년 8월에 발표한 180조원 투자, 4만명 고용 계획의 일환으로 건설됐다. 어려운 여건 속에서도 신규투자와 채용을 적극 확대하고 있다”고 강조했다. 실제 평택 2라인에는 총 30조원 이상의 대규모 투자가 집행되며 직접 고용 인력은 약 4천명, 협력사 등을 포함해 약 3만명 이상의 고용창출이 가능하다고 회사 쪽은 설명했다.
송채경화 기자
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