한겨레

7일 찾은 경기도 삼성전자 평택캠퍼스 평택 1라인 클린룸에서는 노동자들을 거의 찾아볼 수 없었다. 드문드문 반도체 장비가 제대로 돌아가는지 확인하기 위해 방진복을 입은 노동자들이 오갈 뿐이었다. 맡은 역할에 따라 각각 흰색, 주황색, 파랑색, 하늘색 방진복을 입었다.

클린룸에선 그랜저 차 한대 값에 달하는 ‘웨이퍼 자동반송 로봇’ 수십 대가 바삐 움직였다. 이곳에선 웨이퍼를 들여와 반도체 회로를 그릴 수 있도록 하는 확산과 박막 공정을 비롯해 회로를 그려 구분하는 포터 등 8대 공정이 이뤄진다. 30조원 이상이 투입됐다. 여기서 생산된 웨이퍼는 패키징 등 후공정을 위해 충남 온양으로 옮겨진다. 삼성전자 관계자는 “반도체 생산 공정 대부분 자동화가 이뤄졌다”고 설명했다. 평택1라인에선 삼성전자 주력 상품인 메모리 반도체(낸드플래시·디(D)램)가 생산된다.

클린룸 바깥은 전혀 다른 모습이다. 안전모를 쓴 노동자 수십명이 공사 현장에서 바삐 움직였다. 2021년 5월 착공한 평택 3라인 일부 공사와 아직 생산 품목을 정하지 않은 피(P) 4라인의 기초 공사를 하는 중이다. 앞서 평택 1라인은 2015년 6월 공사를 시작해 2017년부터 가동에 들어갔고, 평택 2라인은 2018년 1월 착공해 2020년 8월부터 생산을 시작했다.

삼성전자가 이날 보안이 필요한 평택캠퍼스를 공개한 것은 평택 3라인이 본격 가동한 것을 기념해서다. 여전히 일부 시설은 공사 중이지만, 지난 7월부터 낸드플래시 양산을 시작했다. 삼성전자는 평택 3라인에 첨단 반도체 생산을 위해 극자외선(EUV) 공정 기반의 디램과 5나노(10억분의 1m) 이하 파운드리 공정 등의 생산시설을 마련할 계획이다.

미·중 갈등으로 인한 반도체 산업의 불확실성이 커지고, 반도체 업황 하락 우려 등에도 투자를 이어가는 모습을 피력한 셈이다. 삼성전자 반도체 사업을 이끌고 있는 경계현 디에스(DS)부문장(사장)은 기자들과 만나 “반도체 경기 사이클이 빨라지면서 불황기에 투자를 적게 하면 호황기에 안 좋을 결과를 가져올 수 있다”며 “투자를 경기 변화에 의존하기보다 꾸준하게 하는 것이 더 맞다고 생각한다”고 말했다.

줄어든 후발주자와 격차를 벌리기 위한 차원이기도 하다. 경 사장은 “최근 격차가 줄어든 것은 연구개발(R&D) 투자를 예전보다 적게 한 영향”이라며 “올해 하반기는 물론 내년도 좋아질 모멘텀은 보이지 않지만, 위기는 좋은 기회가 될 수 있어 연구개발에 더 투자할 계획”이라고 말했다.

그렇다고 불안감이 없는 것은 아니다. 경 사장은 “미·중 갈등 영향으로 사업하는 데 있어 어려움이 없지는 않다”며 “갈등 속에서도 결국 서로가 윈윈하는 솔루션을 찾기 위해 노력을 하고 있다”고 말했다. 또 “정부가 해야 할 일과 기업이 해야 할 일을 구분할 필요가 있다”며 “(정부 쪽에) 무엇을 해야 한다고 말하기보다 ‘중국에 먼저 이해를 구하고 미국과 협상을 했으면 좋겠다’ 등의 우려를 전달하고 있다”고 말했다.

이날 공개한 평택캠퍼스는 총면적 289만㎡(약 87만평)에 이르는 대단지다. 기흥캠퍼스(142만㎡)와 화성사업장(159만㎡)의 면적을 합친 수준이다. 평택 1∼3라인에 추가로 3개 라인을 더 지을 수 있는 규모다. 경 사장은 “평택캠퍼스는 업계 최선단의 14나노 디램과 초고용량 브이(V)낸드, 5나노 이하 첨단 시스템반도체가 모두 생산되는 첨단 반도체 복합 생산단지로 성장하고 있다”고 밝혔다.

이정훈 기자 ljh9242@hani.co.kr